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氧化剂浓度对4H-SiC化学机械抛光效果的影响
高 飞,李 晖,徐永宽
Influence of oxidant concentration on 4H-SiC chemical mechanical polishing result
GAO Fei, LI Hui, XU Yongkuan
功能材料 . 2016, (
10
): 10189 -10192 . DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2016.10.035