磁控溅射法制备低电阻率Ta薄膜研究

功能材料 ›› 2013, Vol. 44 ›› Issue (18) : 28-0.

研究开发

磁控溅射法制备低电阻率Ta薄膜研究

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Preparation of Low Resistivity Tantalum Film Deposited by Magnetron Sputtering

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Received	Revised	Published
2013-01-06	2013-02-27	2013-09-30
Issue Date
2013-09-30

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