高压对高功率脉冲磁控放电等离子体注入与沉积氧化钒薄膜的影响

功能材料 ›› 2012, Vol. 43 ›› Issue (14) : 1922-1926.

{{article.zuoZhe_CN}}

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Influence of High Voltage on Vanadium Oxide Films Fabricated by High Power Pulsed Magnetron Discharge Ion Implantation ＆ Deposition

{{article.zuoZhe_EN}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}. 2012, 43(14): 1922-1926

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}. Journal of Functional Materials. 2012, 43(14): 1922-1926

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2012-02-10	2012-03-12	2012-07-30
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2012-07-30

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{{custom_sec.title}}

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{{custom_fnGroup.title_cn}}

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