采用非平衡磁控溅射技术在不锈钢及Si p(111) 基体上制备了含氢无定形碳(a-C:H) 薄膜,沉积的薄膜表面光滑,硬度高,内应力小,膜/基结合力好。利用球-盘摩擦实验机对薄膜在不同真空度 (1.0×105 Pa 、5.0×10-2 Pa 、1.0×10-2 Pa 、5.0×10-3 Pa ) 下的摩擦学行为进行了研究,结果表明:随着真空度的升高,薄膜的摩擦系数逐渐减小,磨损率逐渐增大。在5.0×10-3 Pa 时,a-C:H 膜的摩擦学行为发生突变,此时薄膜的摩擦系数为0.005,而耐磨寿命很短。高真空中,薄膜寿命的突变可能与薄膜脱氢而结构发生变化有关。