热丝CVD法低温制备的多晶硅薄膜质量对衬底依赖性的研究

功能材料 ›› 2011, Vol. 42 ›› Issue (11) : 1947-1950.

研究与开发

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The low temperature deposited poly-Si thin film by HWCVD quality dependence on substrates

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Received	Revised	Published
2011-03-14	2011-04-18	2011-11-20
Issue Date
2011-11-20

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