靶基距对射频磁控溅射法制备氟碳膜的结构与性能影响

刘增机;纪全;张浴晖;夏延致;王凤军;

功能材料 ›› 2011, Vol. 42 ›› Issue (05) : 30-0.
研究与开发

靶基距对射频磁控溅射法制备氟碳膜的结构与性能影响

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
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The study on structure and properties of fluorocarbon films prepared by RF magnetron sputtering at varying target-substrate distance

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
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{{article.keyPoints_cn}}

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{{article.keyPoints_en}}

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{{article.zhaiyao_cn}}

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{{article.zhaiyao_en}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}. 2011, 42(05): 30-0
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}. 2011, 42(05): 30-0

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{{article.reference}}

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{{article.copyrightStatement_cn}}
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