射频磁控溅射法制备La0.9Sr0.1Ga0.8Mg0.2O3-δ电解质薄膜的研究

功能材料 ›› 2011, Vol. 42 ›› Issue (01) : 37-0.

研究与开发

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Preparation and characterization of La0.9Sr0.1Ga0.8Mg0.2O3-δ thin film deposited by RF magnetron sputtering

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Received	Revised	Published
2010-05-04	2010-06-05	2011-01-20
Issue Date
2011-01-20

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