溅射电流对磁控溅射CrNx薄膜结构与性能的影响

孔庆花

功能材料 ›› 2010, Vol. 41 ›› Issue (12) : 44-0.
研究与开发

溅射电流对磁控溅射CrNx薄膜结构与性能的影响

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
作者信息 +

Effect of sputtering current on the structure and properties of CrNx films deposited by magnetron sputtering

    {{javascript:window.custom_author_en_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_EN}}
Author information +
History +

本文亮点

{{article.keyPoints_cn}}

HeighLight

{{article.keyPoints_en}}

摘要

{{article.zhaiyao_cn}}

Abstract

{{article.zhaiyao_en}}

关键词

Key words

引用本文

导出引用
{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}. 2010, 41(12): 44-0
{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}. 2010, 41(12): 44-0

参考文献

参考文献

{{article.reference}}

基金

版权

{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}

Accesses

Citation

Detail

段落导航
相关文章

/