基底负偏压对直流磁控溅射CrN薄膜择优取向及表面形貌的影响

功能材料 ›› 2010, Vol. 41 ›› Issue (06) : 17-0.

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Effects of substrate negative bias voltages on preferred orientation and surface morphology of CrN films deposited by DC reactive magnetron sputtering

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Received	Revised	Published
2009-10-12	2009-12-22	2010-06-25
Issue Date
2010-06-25

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