HPMC改性PVA薄膜易氧化物残留研究

doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2020.12.013

功能材料 ›› 2020, Vol. 51 ›› Issue (12) : 12088-12093. DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2020.12.013

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HPMC改性PVA薄膜易氧化物残留研究

{{article.zuoZhe_CN}}

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Study on easy oxide residues of HPMC modified PVA films

{{article.zuoZhe_EN}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}. 2020, 51(12): 12088-12093 https://doi.org/10.3969/j.issn.1001-9731.2020.12.013

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}. 2020, 51(12): 12088-12093 https://doi.org/10.3969/j.issn.1001-9731.2020.12.013

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2020-06-01	2020-09-26	2020-12-30
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2020-12-30

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{{custom_sec.title}}

{{custom_sec.title}}

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{{custom_fnGroup.title_cn}}

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