基底负偏压对CO<sub>2</sub>气相反应溅射制备C∶TiO<sub>2</sub>薄膜性能的影响研究

doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2019.06.016

功能材料 ›› 2019, Vol. 50 ›› Issue (6) : 6088-6094. DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2019.06.016

基底负偏压对CO₂气相反应溅射制备C∶TiO₂薄膜性能的影响研究

{{article.zuoZhe_CN}}

作者信息 +

Study on the effect of substrate negative bias voltage on the properties of C∶TiO₂ thin films prepared by reaction sputtering using CO₂ gas

{{article.zuoZhe_EN}}

Author information +

History +

本文亮点

HeighLight

摘要

Abstract

关键词

Key words

引用本文

EndNote

Ris (Procite)

Bibtex

导出引用

{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}. 2019, 50(6): 6088-6094 https://doi.org/10.3969/j.issn.1001-9731.2019.06.016

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}. 2019, 50(6): 6088-6094 https://doi.org/10.3969/j.issn.1001-9731.2019.06.016

参考文献

原文顺序 | 文献年度倒序 | 文中引用次数倒序

参考文献

基金

版权

PDF(1653 KB)

Accesses

Citation

Detail

段落导航

Received	Published
2019-03-10	2019-06-30
Issue Date
2019-06-28

选择文件类型/文献管理软件名称

选择包含的内容

本文亮点

HeighLight

摘要

Abstract

关键词

Key words

引用本文

{{custom_sec.title}}

{{custom_sec.title}}

参考文献

参考文献

{{custom_fnGroup.title_cn}}

脚注

{{custom_ack.title_cn}}

基金

版权