基底负偏压对CO<sub>2</sub>气相反应溅射制备C∶TiO<sub>2</sub>薄膜性能的影响研究

doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2019.06.016

功能材料 ›› 2019, Vol. 50 ›› Issue (6) : 6088-6094. DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2019.06.016

基底负偏压对CO₂气相反应溅射制备C∶TiO₂薄膜性能的影响研究

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Study on the effect of substrate negative bias voltage on the properties of C∶TiO₂ thin films prepared by reaction sputtering using CO₂ gas

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Received	Published
2019-03-10	2019-06-30
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2019-06-28

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