烧结气氛压力对高性能TFT用ITO靶材结瘤性能的研究

doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2018.08.009

功能材料 ›› 2018, Vol. 49 ›› Issue (8) : 8057-8061. DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2018.08.009

研究·开发

烧结气氛压力对高性能TFT用ITO靶材结瘤性能的研究

{{article.zuoZhe_CN}}

作者信息 +

Effect of sintering pressure on the nodulation of high performance TFT ITO target

{{article.zuoZhe_EN}}

Author information +

History +

本文亮点

HeighLight

摘要

Abstract

关键词

Key words

引用本文

EndNote

Ris (Procite)

Bibtex

导出引用

{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}. 2018, 49(8): 8057-8061 https://doi.org/10.3969/j.issn.1001-9731.2018.08.009

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}. Journal of Functional Materials. 2018, 49(8): 8057-8061 https://doi.org/10.3969/j.issn.1001-9731.2018.08.009

参考文献

原文顺序 | 文献年度倒序 | 文中引用次数倒序

参考文献

基金

版权

PDF(3542 KB)

Accesses

Citation

Detail

段落导航

Received	Published
2018-03-14	2018-08-30
Issue Date
2018-08-30

选择文件类型/文献管理软件名称

选择包含的内容

本文亮点

HeighLight

摘要

Abstract

关键词

Key words

引用本文

{{custom_sec.title}}

{{custom_sec.title}}

参考文献

参考文献

{{custom_fnGroup.title_cn}}

脚注

{{custom_ack.title_cn}}

基金

版权