烧结气氛压力对高性能TFT用ITO靶材结瘤性能的研究

doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2018.08.009

功能材料 ›› 2018, Vol. 49 ›› Issue (8) : 8057-8061. DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2018.08.009

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烧结气氛压力对高性能TFT用ITO靶材结瘤性能的研究

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Effect of sintering pressure on the nodulation of high performance TFT ITO target

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2018-03-14	2018-08-30
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2018-08-30

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