不同氮气气压脉冲激光沉积氮化钛薄膜的结构和电学性能

doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2018.06.033

功能材料 ›› 2018, Vol. 49 ›› Issue (6) : 6196-6200. DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2018.06.033

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Structure and electrical properties of titanium nitride thin films prepared by pulsed laser deposition at different pressures

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2017-11-25	2018-06-30
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2018-06-30

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