快速光热退火制备硅基锗薄膜的机理研究

doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2018.04.033

功能材料 ›› 2018, Vol. 49 ›› Issue (4) : 4179-4183. DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2018.04.033

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快速光热退火制备硅基锗薄膜的机理研究

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Study on the mechanism of preparation of silicon based germanium thin films by rapid thermal

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Received	Published
2017-10-20	2018-04-30
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2018-04-30

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