快速光热退火制备硅基锗薄膜的机理研究

doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2018.04.033

功能材料 ›› 2018, Vol. 49 ›› Issue (4) : 4179-4183. DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2018.04.033

工艺·技术

快速光热退火制备硅基锗薄膜的机理研究

{{article.zuoZhe_CN}}

作者信息 +

Study on the mechanism of preparation of silicon based germanium thin films by rapid thermal

{{article.zuoZhe_EN}}

Author information +

History +

本文亮点

HeighLight

摘要

Abstract

关键词

Key words

引用本文

EndNote

Ris (Procite)

Bibtex

导出引用

{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}. 2018, 49(4): 4179-4183 https://doi.org/10.3969/j.issn.1001-9731.2018.04.033

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}. Journal of Functional Materials. 2018, 49(4): 4179-4183 https://doi.org/10.3969/j.issn.1001-9731.2018.04.033

参考文献

原文顺序 | 文献年度倒序 | 文中引用次数倒序

参考文献

基金

版权

PDF(1447 KB)

Accesses

Citation

Detail

段落导航

Received	Published
2017-10-20	2018-04-30
Issue Date
2018-04-30

选择文件类型/文献管理软件名称

选择包含的内容

本文亮点

HeighLight

摘要

Abstract

关键词

Key words

引用本文

{{custom_sec.title}}

{{custom_sec.title}}

参考文献

参考文献

{{custom_fnGroup.title_cn}}

脚注

{{custom_ack.title_cn}}

基金

版权