靶电流密度对热丝增强等离子磁控溅射制备Cr<sub>2</sub>N薄膜结构与性能的影响

doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2018.03.010

功能材料 ›› 2018, Vol. 49 ›› Issue (3) : 3070-3075. DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2018.03.010

靶电流密度对热丝增强等离子磁控溅射制备Cr₂N薄膜结构与性能的影响

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Effect of target current density on the structure and property of the Cr₂N films deposited by hot wire plasma enhanced magnetron sputtering

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2017-05-31	2018-03-31
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2018-03-31

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