Ni、S单掺杂及共掺杂TiO<sub>2</sub>薄膜的制备及光生阴极保护性能研究

doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2017.11.020

功能材料 ›› 2017, Vol. 48 ›› Issue (11) : 11113-11120. DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.11.020

Ni、S单掺杂及共掺杂TiO₂薄膜的制备及光生阴极保护性能研究

{{article.zuoZhe_CN}}

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Preparation of Ni, S single doped and co doped TiO₂ thin films and study on the protective properties of the photo cathode

{{article.zuoZhe_EN}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}. 2017, 48(11): 11113-11120 https://doi.org/10.3969/j.issn.1001-9731.2017.11.020

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}. Journal of Functional Materials. 2017, 48(11): 11113-11120 https://doi.org/10.3969/j.issn.1001-9731.2017.11.020

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2017-03-12	2017-11-30
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2017-11-30

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{{custom_sec.title}}

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{{custom_fnGroup.title_cn}}

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{{custom_ack.title_cn}}

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