Ni、S单掺杂及共掺杂TiO<sub>2</sub>薄膜的制备及光生阴极保护性能研究

doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2017.11.020

功能材料 ›› 2017, Vol. 48 ›› Issue (11) : 11113-11120. DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.11.020

Ni、S单掺杂及共掺杂TiO₂薄膜的制备及光生阴极保护性能研究

{{article.zuoZhe_CN}}

作者信息 +

Preparation of Ni, S single doped and co doped TiO₂ thin films and study on the protective properties of the photo cathode

{{article.zuoZhe_EN}}

Author information +

History +

本文亮点

HeighLight

摘要

Abstract

关键词

Key words

引用本文

EndNote

Ris (Procite)

Bibtex

导出引用

{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}. 2017, 48(11): 11113-11120 https://doi.org/10.3969/j.issn.1001-9731.2017.11.020

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}. {{journal.qiKanMingCheng_EN}}. 2017, 48(11): 11113-11120 https://doi.org/10.3969/j.issn.1001-9731.2017.11.020

参考文献

原文顺序 | 文献年度倒序 | 文中引用次数倒序

参考文献

基金

版权

PDF(4830 KB)

Accesses

Citation

Detail

段落导航

Received	Published
2017-03-12	2017-11-30
Issue Date
2017-11-30

选择文件类型/文献管理软件名称

选择包含的内容

本文亮点

HeighLight

摘要

Abstract

关键词

Key words

引用本文

{{custom_sec.title}}

{{custom_sec.title}}

参考文献

参考文献

{{custom_fnGroup.title_cn}}

脚注

{{custom_ack.title_cn}}

基金

版权