钇掺杂量和膜厚对HfO<sub>2</sub>纳米薄膜相结构的影响

doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2017.10.026

功能材料 ›› 2017, Vol. 48 ›› Issue (10) : 10154-10158. DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.10.026

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钇掺杂量和膜厚对HfO₂纳米薄膜相结构的影响

{{article.zuoZhe_CN}}

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Effects of yttrium content and thickness on the phase evolution of HfO₂ thin films

{{article.zuoZhe_EN}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}. 2017, 48(10): 10154-10158 https://doi.org/10.3969/j.issn.1001-9731.2017.10.026

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}. Journal of Functional Materials. 2017, 48(10): 10154-10158 https://doi.org/10.3969/j.issn.1001-9731.2017.10.026

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2017-03-22	2017-10-31
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2017-10-31

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{{custom_sec.title}}

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{{custom_fnGroup.title_cn}}

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