磁控溅射制备Al掺杂氮化铜薄膜研究

doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2017.05.033

功能材料 ›› 2017, Vol. 48 ›› Issue (5) : 5180-5184. DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.05.033

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磁控溅射制备Al掺杂氮化铜薄膜研究

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Study on the Al doped Cu₃N films prepared by magnetron sputtering

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2016-06-24	2017-05-30
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2017-05-30

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