直流脉冲磁控溅射铜膜的结构与性能研究

doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2017.02.026

功能材料 ›› 2017, Vol. 48 ›› Issue (2) : 2144-2148. DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.02.026

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直流脉冲磁控溅射铜膜的结构与性能研究

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Study on structure and properties of copper films deposited by DC pulsed magnetron sputtering

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2016-03-10	2017-02-28
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2017-02-28

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