SiC厚膜快速外延生长刻蚀工艺研究

doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2017.01.024

功能材料 ›› 2017, Vol. 48 ›› Issue (1) : 1139-1143. DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.01.024

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SiC厚膜快速外延生长刻蚀工艺研究

{{article.zuoZhe_CN}}

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Effect of etching process on fast-epitaxial SiC thick films

{{article.zuoZhe_EN}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}. 2017, 48(1): 1139-1143 https://doi.org/10.3969/j.issn.1001-9731.2017.01.024

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}. Journal of Functional Materials. 2017, 48(1): 1139-1143 https://doi.org/10.3969/j.issn.1001-9731.2017.01.024

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2016-02-22	2017-01-30
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2017-01-30

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{{custom_sec.title}}

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{{custom_fnGroup.title_cn}}

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