基于射频磁控溅射法制备ZnO薄膜研究

doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.增刊(Ⅱ).015

功能材料 ›› 2016, Vol. 47 ›› Issue (S2) : 81-84. DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2016.增刊(Ⅱ).015

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基于射频磁控溅射法制备ZnO薄膜研究

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Preparation research of ZnO thin films by RF magnetron sputtering

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2016-07-14	2016-12-20
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2016-12-20

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