退火温度对Ni51.33Mn33.23In15.43薄膜微观结构和磁性能的影响

doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.06.042

功能材料 ›› 2016, Vol. 47 ›› Issue (6) : 6225-6227. DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2016.06.042

退火温度对Ni_51.33Mn_33.23In_15.43薄膜微观结构和磁性能的影响

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Influence of annealing temperature on microstructure and magnetic properties of Ni_51.33Mn_33.23In_15.43 magnetic shape memory thin film

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2015-06-24	2016-06-30
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2016-06-30

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