刻蚀转移掩蔽膜用单分散SiO<sub>2</sub>纳米小球制备

doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.05.040

功能材料 ›› 2016, Vol. 47 ›› Issue (5) : 212-216. DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2016.05.040

工艺·技术

刻蚀转移掩蔽膜用单分散SiO₂纳米小球制备

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Preparation of monodispersed spherical silicon dioxide particles used as pattern transfer etching mask

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2015-02-02	2016-05-30
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2016-05-30

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