Ge15Ga10Te75薄膜的磁控溅射制备及性能的可控研究

doi:10.3969/j.issn.1001-9731.2016.04.004

功能材料 ›› 2016, Vol. 47 ›› Issue (4) : 17-22. DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2016.04.004

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Ge₁₅Ga₁₀Te₇₅薄膜的磁控溅射制备及性能的可控研究

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The controllable performance of Ge₁₅Ga₁₀Te₇₅ thin films deposited by magnetron sputtering

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2015-05-08