磁控溅射法制备钒掺杂Cu3N薄膜研究

功能材料 ›› 2015, Vol. 46 ›› Issue (04) : 17-0.

研究开发

磁控溅射法制备钒掺杂Cu3N薄膜研究

{{article.zuoZhe_CN}}

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Study of V-doped Cu3N Films Prepared by Reactive Magnetron Sputtering

{{article.zuoZhe_EN}}

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{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}. 2015, 46(04): 17-0

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}. Journal of Functional Materials. 2015, 46(04): 17-0

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Received	Revised	Published
2014-04-04	2014-11-13	2015-02-28
Issue Date
2015-02-28

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{{custom_sec.title}}

{{custom_sec.title}}

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{{custom_fnGroup.title_cn}}

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