反应射频磁控溅射法制备HfTaO薄膜的热稳定性和光学性能

功能材料 ›› 2012, Vol. 43 ›› Issue (10) : 32-0.

研究与开发

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Thermal stability and optical properties of HfTaO films prepared by reactive RF magnetron sputtering?

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Received	Revised	Published
2011-11-08	2011-12-26	2012-05-30
Issue Date
2012-05-30

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