斜切基片上溅射生长高密度小尺寸Ge纳米点的研究

功能材料 ›› 2012, Vol. 43 ›› Issue (10) : 27-0.

研究与开发

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Study of the small and dense Ge nanodots deposited on vicinal Si (001) substrate by ion-beam sputtering

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Received	Revised	Published
2011-12-08	2012-01-31	2012-05-30
Issue Date
2012-05-30

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