射频磁控溅射沉积高质量ZnO薄膜的工艺条件(修改稿)

功能材料 ›› 2012, Vol. 43 ›› Issue (05) : 677-680.

研究与开发

{{article.zuoZhe_CN}}

作者信息 +

Deposition Parameters of RF Sputtered High-Quality ZnO films

{{article.zuoZhe_EN}}

Author information +

History +

本文亮点

HeighLight

摘要

Abstract

关键词

Key words

引用本文

EndNote

Ris (Procite)

Bibtex

导出引用

{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}. 2012, 43(05): 677-680

{{article.zuoZheEn_L}}. {{article.title_en}}. Journal of Functional Materials. 2012, 43(05): 677-680

参考文献

原文顺序 | 文献年度倒序 | 文中引用次数倒序

参考文献

基金

版权

PDF(1698 KB)

Accesses

Citation

Detail

段落导航

Received	Revised	Published
2011-10-11	2011-10-20	2012-03-15
Issue Date
2012-03-15

选择文件类型/文献管理软件名称

选择包含的内容

本文亮点

HeighLight

摘要

Abstract

关键词

Key words

引用本文

{{custom_sec.title}}

{{custom_sec.title}}

参考文献

参考文献

{{custom_fnGroup.title_cn}}

脚注

{{custom_ack.title_cn}}

基金

版权