镍间隙掺杂硅纳米线电子结构的研究

功能材料 ›› 2011, Vol. 42 ›› Issue (07) : 1207-1210.

研究与开发

镍间隙掺杂硅纳米线电子结构的研究

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Study of electronic structure of interstitial Ni-doping in silicon nanowires

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Received	Revised	Published
2010-10-22	2011-01-28	2011-07-25
Issue Date
2011-07-25

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